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CAD-3D (OCW Università della Cantabria)
In questo corso si analizzano i concetti fondamentali del disegno CAD-3D, in particolar modo lo strumento Autodesk Inventor.Disegno Assistito dal Computer (OCW Università della Cantabria)
Disegno Industriale I (OCW Università Politecnica di Madrid)
Corso base di disegno tecnico per studenti di Ingegneria Industriale e Ingegneria Chimica.Disegno Industriale II (OCW Università Politecnica di Madrid)
Materia obbligatoria del primo corso facente parte dei programmi di studio di Ingegneria Industriale e Ingegneria Chimica. Sono concetti fondamentali di tutto il programma: Funzionamento di un complessivo o di un meccanismo. Nelle prove di valutazione si richiede la comprensione del funzionamento di un complessivo o la funzionalità di determinati componenti. Saranno riprese anche le tematiche di tolleranza geometrica e dimensionale dal momento che si esige, per esempio, di determinare se un accoppiamento è libero oppure forzato in base al funzionamento corretto del complessivo. Il perché di ogni elemento e della forma di questo, facendo vedere che una parte isolata non ha significato se non è accoppiato con il suo corrispondente, dove ogni forma e dimensione dipende dagli tutti i componenti che si uniscono insieme (un complessivo è un meccanismo dove ciascun componente ha la sua funzione ben determinata e dove ognuno deve incastrarsi perfettamente al proprio posto). Il concetto di normalizzazione, che va ben oltre le norme del disegno e condiziona forme e dimensioni dei componenti (viti, bulloni, chiavarde, etc). Si giustifica inoltre il perché di questa normalizzazione. Si fa un’introduzione alla manipolazione di queste norme e dei cataloghi dei componenti. Inoltre si devono adattare a queste norme dimensioni di componenti affetti da queste. L’interpretazione di piani. Si può chiedere lo smontaggio di componenti che non risultano perfettamente definiti nei piani del complessivo col fine di dover definire quelli che mancano, seguendo sempre il criterio che ciò che è definito deve essere compatibile col funzionamento del complessivo in precedenza definito e con le conoscenze che in quel momento si hanno a disposizione. Nei piani degli esercizi che saranno distribuiti potranno esserci determinati “errori” volontari, col fine di doverli riconoscere e correggere. Schizzi. Tutti gli esercizi realizzati durante il corso e che si riferiscono a disegni di complessivi si realizzano a mano libera su carta millimetrata. In questo modo si rende consapevoli di poter plasmare le idee su di un pezzo di carta a mano libera e senza strumenti di disegno. Questa situazione si presenta con una certa frequenza nel disegno industriale.Espressione Grafica (OCW Università Politecnica di Madrid)
Questo corso è un punto di partenza per una serie di materie complementari che sono impartite all’interno dell’Area dell’Espressione Grafica, e definisce le basi geometriche per la rappresentazione e l’analisi della forma in un piano e nello spazio. Nelle materie complementari si migliora nel disegno e nella modellatura nell’ambito della specializzazione, con l’uso delle moderne tecniche grafiche informatiche.Geometria Grafica Informatica in Architettura I (OCW Università Politecnica di Madrid)
Teoria geometrica dell’oggetto architettonico con strumenti informatici. Questa materia si occupa dello studio delle forme spaziali in relazione con l’architettura e della loro rappresentazione, mediante l’uso dei mezzi informatici. Si può considerare, da una parte, come un approfondimento e un ampliamento delle conoscenze acquisite dallo studente in Geometria Descrittiva; dall’altra, implica l’applicazione, secondo gli strumenti informatici, dei concetti che si riferiscono all’espressione grafica appresi durante le altre lezione della stessa Area.Geometria Grafica Informatica in Architettura II (OCW Università Politecnica di Madrid)
La materia approfondisce lo studio geometrico dell'opera architettonica con strumenti informatici, considerata globalmente a partire dalla sua complessità spaziale, compositiva, costruttiva e strutturale.Introduzione alla fotografia (OCW Università di Siviglia)
Introduzione alla fotografiaNuovi materiali, supporti e poetica pittorica (OCW Università di Murcia)
Il corso “Nuovi Materiali, Supporti e Poetica Pittorica” si colloca all’interno del Master in Produzione e Gestione Artistica appartenente al programma Ufficiale di Specialistica in Belle Arti. Studio sulle diverse scelte esistenti nella creazione artistica connesse con l’uso delle nuove risorse tecniche e…Specifiche di dimensioni e tolleranze (GD&T) (OCW Università Politecnica di Madrid)
Si presentano i contenuti di base della specificazione, interpretazione e analisi delle specificazioni geometriche di componenti e prodotti.
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Autori correlati: Antonio García López | Carmen García Reig | César Otero González | Cristina Manchado del Val | Grupo de Ingeniería Gráfica y Simulación | Ismael García Ríos | Javier Pérez Álvarez | Jesús Félez | Jesús Pérez | José Jaime Rúa Armesto | José Juan Aliaga Maraver | Miguel Angel López Pérez | Miguel Laguna Esteras | Mª Luisa Martínez Muneta | Rafael Pérez Cortés | Santiago Poveda Martínez
Università correlate: Università della Cantabria | Università di Siviglia | Università Politecnico di Madrid | Università di Murzia
